Ingenieros estadounidenses lo lograron mediante un dispositivo que posee una micro aguja parecida a la de un antiguo tocadiscos y la aplicación de nano-litografía óptica como técnica primaria.
(EOL/Oswaldo Barajas).- Microprocesadores hasta 10 veces más pequeños que los más modernos y discos duros con alta densidad de almacenamiento en unas 100 veces más en comparación con los actuales, podrán ser fabricados a partir de la novedosa técnica descubierta por ingenieros de la universidad californiana de Berkeley.
Los científicos, pertenecientes al grupo de investigadores docentes en la Universidad de Berkeley, California, crearon un dispositivo parecido a una aguja de tocadiscos de vinilo para utilizar un esquema de nano-litografía óptica y que según ello podría ser aplicada para el desarrollo de una nueva generación microprocesadores hasta 10 veces más pequeños y posiblemente para la fabricar discos duros con 100 veces más capacidad de almacenamiento.
La propuesta consiste en usar la Litografía, que es el proceso de imprimir patrones sobre materiales semiconductores para usarlos posteriormente como circuitos integrados. Este procedimiento pero con técnicas de ópticas nanométricas, es combinada con lentes metálicos que enfocan la luz a través de la activación de electrones o también conocido como plasmones y para ellos se utiliza sobre la superficie de las lentes un cabezal parecido a la de un antiguo tocadiscos o bien, a los lectores de los discos duros. Este procedimiento permitió a los ingenieros crear patrones lineales de 80 nm de anchura y velocidades de hasta 12 m/s y un espectro disponible para aumentar la resolución a una límite hasta ahora incierto.
Cabe señalar que la litografía óptica es en la actualidad un esquema primordial para la industria de los semiconductores, ya que por medio de ésta se logra transferir la luz a través de un layer con el patrón del circuito deseado sobre un material revelador fotosensible y que reacciona químicamente cuando se expone. Finalmente este proceso culmina cuando este material se pasa a través de una serie de enjuagues químicos para que quede grabado el diseño de circuito sobre muna oblea.
 Para algunos este desarrollo parecería irrelevante, puesto que en la actualidad la litografía óptica o también denominada foto-litografía, son técnicas ya utilizadas, no obstante el costo de utilizar la litografía más avanzada puede llegar a los 35 nanómetros, pero es muy costoso y poco atractivo para las compañías del Valle del Silicio. Con esta técnica, de acuerdo a las declaraciones de Xiang Zhang y David Bogy, ambos profesores de ingeniería mecánica de la Universidad de Berkeley y orquestadores de este proyecto, se consigue abaratar en gran medida el proceso y en comparación con los actuales esquemas de fabricación litográfica, la nueva permite desarrollar mayores resoluciones. |
Publicado por: Karla Velasquez
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